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電波暗室的4個(gè)技術(shù)指標(biāo)
 2021年11月24日 |閱讀次數(shù):1531

電波暗室作為電磁輻射抗擾度試驗(yàn)場(chǎng)地,在使用的時(shí)候需要保證屏蔽效能,如何判斷電波暗室的優(yōu)劣就需要從技術(shù)指標(biāo)上來(lái)參考,電波暗室的主要指標(biāo)有4個(gè)。


電波暗室


1.尺寸。電波暗室的長(zhǎng)寬高需要能夠容納試驗(yàn)對(duì)象,還要加上吸波材料的高度,需要按照電波暗室性能指標(biāo)和EMC標(biāo)準(zhǔn)來(lái)計(jì)算確定。


2.靜區(qū)面積。電波暗室的靜區(qū)是指暗室里面受反射干擾較弱的區(qū)域,靜區(qū)的大小和暗室的形狀、大小、結(jié)構(gòu)、工作頻率等有關(guān),靜區(qū)尺寸不能小于EUT的尺寸。


3.屏蔽效能。屏蔽效能高低不僅被屏蔽材料的性能影響,還會(huì)被屏蔽體上的縫隙、鉆孔影響,所以在制造屏蔽體和安裝屏蔽門、通風(fēng)口等都需要注意,避免屏蔽效能被降低,影響實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)。


4.歸一化場(chǎng)地衰減。這種方法是測(cè)試電波暗室的指標(biāo)之一,與場(chǎng)地特性和測(cè)試幾何位置有關(guān),和天線特性無(wú)關(guān)。


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